符号说明

本文所采用的符号及单位说明如下：

部分符号：
    F         气体流量(flow rate)
    p         反应室气压
    [CH4]     CH4浓度
    Tf        灯丝温度
    Ts        衬底温度

单位：
    min       分钟
    h         小时
    torr      =133Pa
    sccm      标准状况下每分钟立方厘米
              (cubic centimeter per minute at STP)

部分SEM照片标尺：a*b NM  表示 a×10bnm
例如：100*2NM = 100×102nm = 10μm

本文在晶向符号方面与某些文献不一致，说明如下：
    <uvw>     表示特定的晶向；
    [uvw]     表示具有晶体点群对称性的一组等价晶向；
    (hkl)     表示晶体的晶面；
    {hkl}     表示一组等价晶面．

部分缩略语：
    CVD       化学气相沉积 (Chemical vapor deposition)
    HFCVD     热丝法化学气相沉积 (Hot filament CVD)
    MPCVD     微波等离子体化学气相沉积 (Microwave plasma CVD)
    SEM       扫描电子显微镜 (scanning electron microscopy)
    HRTEM     高分辨透射电子显微镜 (high resolution transmission electron
              microscopy)
    XPS       Ｘ射线光电子谱仪 (X-ray photoelectron spectroscopy)