M.S. Thesis of Qijin Chen

异质基底上化学气相沉积金刚石形核及生长的研究

Nucleation and Growth of Diamond on Hetero-Substrates
by Chemical Vapor Deposition

陈启谨

[致谢] [符号说明] [发表及待发文章]
摘要 (Abstract)
第一章引言: §1.1 本工作的目的和意义; §1.2 金刚石的主要性质及其应用; §1.3 化学气相沉积金刚石膜的鉴定; §1.4 化学气相沉积金刚石膜研究概况; §1.5 主要的CVD金刚石膜沉积方法及比较; 参考文献
第二章热丝CVD金刚石膜生长的基本原理: §2.1 实验装置; §2.2 化学反应动力学; §2.3 基本表面及气相化学反应; §2.4 原子氢(H)的作用; 参考文献
第三章金刚石膜晶形显露规律的实验研究: §3.1 引言; §3.2 实验及结果; §3.3 讨论; §3.4 小结; 参考文献
第四章金刚石在异质基底上形核的实验研究: §4.1 国际研究现状及存在的问题; §4.2 极低压形核法; §4.3 极低压形核法的一个应用: Ti薄膜上的金刚石形核与生长; §4.4 电子发射增强形核的实现及机理研究; §4.5 基本形核规律; 参考文献
第五章单晶Si表面金刚石异质外延生长的研究: §5.1 国际研究现状; §5.2 极低压形核法实现Si上的金刚石外延生长; §5.3 用电子发射增强形核法实现Si上金刚石外延; §5.4 45°转角Si上金刚石异质外延的实验观察; §5.5 金刚石/Si异质外延界面的HRTEM观察; §5.6 本章小结; 参考文献
结语

since 11/05/99.