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等离子体源技术与物理实验室 |
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| Laboratory of Plasma Source Technology and Physics | |
1. 等离子体源技术开发与应用 等离子体产生依赖于放电模式和工作条件，是各种等离子体工业应用的基础。实验室具有各种等离子体源自主研发能力。目前实验室自主研发了ECR微波高密度等离子体源、表面波等离子体源、热阴极直流等离子体、大功率脉冲直流等离子体、直流、电弧装置以及多种常压等离子体冷射流和表面放电装置。
2. 功能薄膜材料的等离子体制备及纳米制造研究 早在90年代初至今，等离子体与材料相互作用一直本实验室的重要研究方向。利用研制的等离子体源，开展等离子体化学气相沉积耐磨、耐腐蚀和超硬材料，包括金刚石、类金刚石、碳化硅、碳化钽、氧化硅等。在等离子体微纳米加工方面，开展了纳米材料和纳米结构制造研究，成功地形成了点状、锥状、波形、椭圆和柱状特征结构，制备了纳米金刚石、碳纳米管、碳纳米纤维、纳米氧化硅及碳化硅线，探索了纳米材料和纳米结构的自组形成和调控的等离子体新技术和新方法。
3. 等离子体表面处理，等离子体冶金 利用等离子体的荷能特性或高活性，进行材料表面处理，改善表面性能或表面清洁。利用等离子体进行金属表面强化冶金或等离子体除去氧化层清洗研究。
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